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讲座报告

光电工程学院青年学者学术论坛讲座预告

作者: 时间:2023-06-13 点击数:

会议时间:2023年06月14日(周三)14:30—16:30

参会人员:光电工程学院部分师生

会议地点:墨子楼S3301

会议简介:

报告题目:薄膜的物理气相沉积技术简介

报告人:王俊宝

报告时间:14:30-15:30

内容简介:物理气相沉积(PVD)技术是在真空条件,用物理的方法将材料汽化成原子、分子或电离成离子,并通过气相过程在衬底上沉积一层具有特殊性能的薄膜技术,物理气相沉积技术制备的薄膜具有无污染、成膜均匀致密、与基体的结合力强等特点,广泛应用于微电子、集成电路、航空航天、电子、光学、机械、轻工等领域。本文主要介绍了真空蒸发、溅射、离子束沉积、外延沉积等物理气相沉积技术,并对其原理和优缺点进行比较分析。

报告题目:DLC膜涂层硬质合金刀具的研究进展

报告人:郑艳彬

报告时间:15:30-16:30

内容简介:介绍了了DLC的制备方法(包括磁控溅射、离子束沉积、脉冲激光沉积、真空阴极电弧沉积、等离子体增强型化学气相沉积)与分类。从酸蚀法、施加过渡层、表面微喷砂处理和掺杂4个方面分析如何提高膜基结合力,探讨了DLC膜的摩擦性能受湿度、温度和加工条件的影响。

光电工程学院

2023年06月13日

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